光刻机对第三代半导体影响

光刻机对第三代半导体的影响相对较小。第三代半导体主要使用成熟制程工艺，其制造过程不需要高端光刻机，避免了被荷兰ASML的高端光刻机卡脖子的风险。然而，攻克第三代半导体光刻机技术仍然表明中国的高科技产业正在经历一次前所未有的飞跃。同时，第三代半导体具有诸多性能上的优势，有国内大市场和国家政策的重要支持，但市场相对较小，是其不可忽视的缺陷。